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余姚市精耐研磨科技有限公司

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行业新闻

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  • 化学机械抛光中抛光垫的主要作用

    抛光垫是化学机械抛光(CMP)系统的重要组成部分。它具有贮存抛光液,并把它均匀运送到工件的整个加区域等作用。抛光垫的性能主要由抛光垫的材料种类、材料性能、表面结构与状态以及修整参数等决定。抛光垫的剪切模量或增大抛光垫的可压缩性,CMP过程材料去除率增大;采用表面合理开槽的抛光垫,可提高材料去除率,降低晶片表面的不均匀性;抛光垫粗糙的表面有...
    发布时间:2016-12-15   点击次数:243
  • 抛光垫表面结构研究

    抛光垫其表面结构起到很重要的作用,其中最主要的作用是影响着抛光垫储存、运送抛光液的能力和表面局部应力梯度等,下面小福给大家讲解下抛光垫的表面结构,让大家更加了解抛光垫表面结构不同的作用。抛光皮具有平整型和带有不同沟槽型的表面结构,福吉常规开槽有(网格型,圆圈型,螺旋形、等形状)不同形状的沟槽起到不同的抛光效果。采用表面开槽的抛光垫抛光时有...
    发布时间:2016-12-12   点击次数:270
  • 关于不锈钢抛光的工艺

    不锈钢抛光目前有几种常用方法,不同的材质以及生产工艺要求选择的抛光方法也不一样,其中有化学抛光、机械抛光、电解抛光、化学机械抛光。化学抛光,设备简单,可以处理形状比较复杂的零件。机械抛光是依靠非常细小的抛光粉的磨削、滚压作用,除去试样磨面上的极薄一层金属。电解抛光,是以被抛工件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通以直流电离...
    发布时间:2016-12-10   点击次数:241
  • 抛光垫机械物理性能及其对抛光效果的影响

    抛光垫的硬度、弹性模量、可压缩性等不同参数对抛光的效果有什么影响呢?接下来小福详细讲解下其中的影响抛光垫的硬度决定了其保持形状精度的能力,不同材质的抛光垫具有不同的硬度。采用硬质抛光垫可获得较好工件表面的平面度,软质抛光垫可获得加工变质层和表面粗糙度都很小的抛光表面。如苹果手机屏幕就先采用硬度较高的福吉抛光垫进行平坦化,然后在采用较软的抛...
    发布时间:2016-12-08   点击次数:226
  • 蓝宝石抛光垫技术获突破,未来将受益进口替代

    大智慧阿思达克通讯社5月16日讯,大智慧通讯社从知情人士了解到,鼎龙股份(300054.SZ)目前已经完成了蓝宝石化学机械抛光的抛光垫材料的合成,蓝宝石抛光垫质量基本过关,其抛光的周期已接近传统要求的4小时,未来公司还将给下游客户提供抛光垫和抛光液配套解决方案。上述人士进一步表示,在蓝宝石产业链中,其实耗材成本大于设备成本,以单位成本来讲...
    发布时间:2016-12-01   点击次数:280
  • 丽奢华的蓝宝石抛光工艺

    随着人们生活越变越好,对于首饰亮度的抛光要求也越来越高,关于蓝宝石首饰的抛光是一大难题,小编就给大家介绍下关于蓝宝石的抛光,目前抛光蓝宝石最适合的就是化学机械抛光工艺,而化抛最重要的耗材就是抛光垫、抛光液。蓝宝石是一种硬度很高的材质,所以抛光中对于抛光液的磨料有很高的要求,目前最适合的就是选用金刚石磨料,其超硬特性可以快速实现宝石的抛光,...
    发布时间:2016-11-27   点击次数:297
  • 抛光液对电脑硬盘抛光的重要性

    目前科技越来越发达,电脑对硬盘的数据储存容量要求也越来越高,近几年对硬盘的几项工艺施行成为了必要,从现在的硬盘磁头接口来看,有效的缩短从临时读写磁头和磁盘介质之间的距离已经成为在磁盘行业上达到更高数据密度的主要驱动力。为了让磁盘储存容量越来越高,缩短磁头和磁盘之间的间隙要缩短,缩短间隙最主要需要让磁盘的表面粗糙度尽可能低的水平。最重要的是...
    发布时间:2016-11-27   点击次数:332
  • 山塘布辘:打造研磨材料专业市场

    南方日报讯(记者/贺欢特约通讯员/丰志毅陈晓琳)一些废弃的布料经过再加工,可以变为广泛应用的研磨抛光材料,通过这种方式谋求经济收益在清新区山塘镇早已常见,并初步形成了布辘产业集群。然而,该产业大部分企业至今未摆脱家庭作坊式生产,近年来遭遇了发展困局。作为山塘镇的传统特色产业,布辘产业如何华丽转型?5月7日,山塘镇邀请了多名业界人士召开了布...
    发布时间:2016-08-27   点击次数:274
  • 抛光革相关知识

    抛光革俗称“水松皮”“抛光纸”,可替代部分进口抛光片,用于光学棱镜、透镜、导电膜玻璃、蓝宝石基板、手机面板玻璃、钟表玻璃及水晶玻璃表面的抛光。主要参数密度(g/cm3)0.400.470.60.60.60.60.65JISK7222硬度(JIS-A)80839580889487K6253硬度(肖氏-D)25266025305530ASTM...
    发布时间:2016-11-24   点击次数:361
  • 化学机械抛光中抛光液的重要性

    到目前为止,要实现大尺寸的硬盘、硅片等的高精度抛光,化学机械抛光是唯一能满足全局和局部高级别平面度的技术。化学机械抛光中最重要的问题是使抛光液在抛光垫和晶片之间均匀分部,目前CMP的抛光液通常使用球形纳米级颗粒来加速切除和优化抛光质量,微级性将提高抛光液的等效粘度从而在一定程度上提高承载能力,进而加速材料的去除,这在低节距或低转速下尤为明...
    发布时间:2016-10-23   点击次数:266
  • 怎么提高抛光垫的使用寿命

    抛光垫表面是较为粗糙的一层,磨擦系数较大,所以一般抛光垫在使用之前往往切削力很好,但是使用一段时间就发现切削力急速好降直至不能使用,这是为何?有什么办法可以提高使用寿命?其实这提高抛光垫的使用寿命可从五个方面考虑:(1)选用硬度较高的抛光垫,一般来说越硬的产品磨损越慢,当然这有个限制,超过一定的硬度先不说生产上的问题,是否符合生产还是个问...
    发布时间:2016-11-18   点击次数:255
  • 阻尼布抛光垫的选择和生产

    阻尼布抛光垫在市场上已经非常流行。其质软,镜面收光光泽度高,不易产生划痕,可以倒R角,并且适用于多种材质等一系列的优点,为很多公司追棒。正因为如此,越来越多厂商麻木的引进阻尼布抛光垫,在不分品种与类别的情况下,胡乱的给人发货,一再强调说抛光所有产品都不是问题,可是阻尼布的抛光效果跟表面是有很大的关联的。阻尼布的抛光除了对材质有要求外,还要...
    发布时间:2016-11-11   点击次数:320

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